【技術(shù)背景】

以投影光刻機(jī)、超精密光學(xué)系統(tǒng)、超穩(wěn)定運(yùn)動(dòng)工件臺(tái)以及激光干涉測(cè)量?jī)x等為代表的超精密設(shè)備對(duì)其加工環(huán)境要求及其苛刻，對(duì)環(huán)境中的溫度、壓力、濕度、潔凈度都必須加以超穩(wěn)定的超穩(wěn)定控制。以光刻機(jī)為例：在光刻機(jī)工件臺(tái)實(shí)際工作過(guò)程中，溫度的空間不均勻性或者隨時(shí)間漂移性都會(huì)嚴(yán)重影響光刻機(jī)的定位精度和套刻精度。具體表現(xiàn)有：工件臺(tái)關(guān)鍵部件會(huì)由于空間溫度的漂移而產(chǎn)生形變進(jìn)而導(dǎo)致運(yùn)動(dòng)誤差，而以激光干涉儀為代表的超穩(wěn)定測(cè)量?jī)x器的波長(zhǎng)會(huì)受溫度、壓力影響，波長(zhǎng)的漂移勢(shì)必會(huì)造成測(cè)量結(jié)果的誤差進(jìn)而最終影響光刻精度。除此之外，空氣中的污染顆粒和化學(xué)腐蝕物也均會(huì)對(duì)工件臺(tái)的運(yùn)動(dòng)性能造成顯著影響。無(wú)論對(duì)于精密加工裝備還是測(cè)量設(shè)備來(lái)說(shuō)，當(dāng)精度達(dá)到納米級(jí)時(shí)，由環(huán)境參數(shù)波動(dòng)引起的誤差因素就成為限制其精度的一大障礙，在這個(gè)時(shí)候很有必要引入一套環(huán)境控制系統(tǒng)來(lái)保證這些精密設(shè)備的苛刻工作環(huán)境需求。

【痛點(diǎn)問(wèn)題】

 傳統(tǒng)方式是采用傳統(tǒng)潔凈室的方式來(lái)保證環(huán)境需求，但隨著設(shè)備環(huán)境控制指標(biāo)的不斷提升，傳統(tǒng)潔凈室由于控制區(qū)域太大的原因，要實(shí)現(xiàn)超穩(wěn)定的溫度等環(huán)境控制十分困難，而且運(yùn)行維護(hù)成本也十分昂貴。

【技術(shù)方案】

 本技術(shù)提出一種超穩(wěn)定微環(huán)境控制系統(tǒng)，創(chuàng)造一個(gè)“溫度、氣壓、濕度、潔凈度”環(huán)境指標(biāo)受控的區(qū)域，為被控對(duì)象提供一個(gè)超穩(wěn)定的工作環(huán)境。